TISTR Library catalog › Details for: Advances in chemical mechanical planarization (CMP)

Advances in chemical mechanical planarization (CMP) [electronic resource] / edited by Suryadevara Babu

ผู้แต่งร่วม: Babu, Suryadevara [ed.]

Language: English ข้อมูลการพิมพ์: Cambridge : Woodhead Publishing, 2016 รายละเอียดตัวเล่ม: 538 p.ISBN: 9780081001653หัวเรื่อง: Chemical mechanical planarization

| Microelectronics

| Nanoelectronics

สารสนเทศออนไลน์: Click here to access cover General note: From Books24x7

Items ( 0 )
Comments ( 0 )

ไม่มีรายการทางกายภาพสำหรับระเบียนนี้

There are no comments on this title.

to post a comment.